東京大学大学院工学系研究科 マテリアル工学専攻 喜多研究室 本文へジャンプ
JAPANESE
ENGLISH
機能性ナノ薄膜工学講座 喜多研究室

MESSAGE
社会の省エネルギー化のために,電力の利用効率を高める技術の普及が急務となっています。当研究室では,高い機能を持つマテリアルを導入した電子デバイスを用いることで,電力利用効率の飛躍的な向上を目指す研究を行います。
例えば超高効率で電力変換を行うパワーデバイスがあれば,機器の動作や電力変換のたびに熱として損失しているエネルギーを大幅に削減できます。また,高度情報化社会では超低消費電力で動作する情報処理システムが不可欠となりつつあります。
当研究室では現在,超高効率の次世代パワーデバイス技術の開発や,新しい動作原理によって電流を殆ど必要としない先端エレクトロニクスを目指した研究を行っています。

准教授 喜多浩之
(きたこうじ)

〒113-8656 東京都文京区本郷7-3-1
東京大学工学部4号館441号室
TEL/FAX 03-5841-7164
kita(at)scio.t.u-tokyo.ac.jp
((at)は@へ置き換えて下さい)

私たちと一緒に研究をしませんか?
見学はいつでも歓迎しています。
事前に喜多まで連絡の上でお越しください。
NEWS
2019年8月 IWGO-3 (The 3rd International Workshop on Gallium Oxide and Other Related Materials)@Columbus, OH, USAにて喜多准教授が口頭発表を行いました。 研究発表リストはこちら
論文発表: D3 Adhi Dwi Hatmanto君のSiC結晶表面に熱酸化により生じる局所歪みの理解に関する論文がAPEX誌に掲載されました ("Similarity and difference of the impact of ion implantation and thermal oxidation on the lattice structure of 4H-SiC (0001) surface") 研究発表リストはこちら

2019年7月 INFOS2019@Cambridge, UKにてD1 Tae-Hyeon Kil君,D1 Siri Nittakayasetwat君が口頭発表を行いました。

Conference Information & Call for Papers
236th ECS Meeting, Symposium D01 - "Semiconductors, Dielectrics, and Metals for Nanoelectronics 17"@Atlanta, USA (Oct13-17, 2019)
International Workshop on Dielectric Thin Films for Future Electron Devices –Science and Technology –(2019IWDTF)@Tokyo (Nov. 18-20, 2019)
8th International Symposium on Control of Semiconductor Interfaces (ISCSI-VIII) @Sendai, Japan (Nov 27-30)


MEMBER RESEARCH PUBLICATION ACCESS GALLERY LINK
 
 東京大学大学院工学系研究科 喜多研究室