東京大学大学院工学系研究科 マテリアル工学専攻 喜多研究室 本文へジャンプ
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機能性ナノ薄膜工学講座 喜多研究室

MESSAGE
社会の省エネルギー化のために,電力の利用効率を高める技術の普及が急務となっています。当研究室では,高い機能を持つマテリアルを導入した電子デバイスを用いることで,電力利用効率の飛躍的な向上を目指す研究を行います。
例えば超高効率で電力変換を行うパワーデバイスがあれば,機器の動作や電力変換のたびに熱として損失しているエネルギーを大幅に削減できます。また,高度情報化社会では超低消費電力で動作する情報処理システムが不可欠となりつつあります。
当研究室では現在,超高効率の次世代パワーデバイス技術の開発や,新しい動作原理によって電流を殆ど必要としない先端エレクトロニクスを目指した研究を行っています。

准教授 喜多浩之
(きたこうじ)

〒113-8656 東京都文京区本郷7-3-1
東京大学工学部4号館441号室
TEL/FAX 03-5841-7164
kita(at)scio.t.u-tokyo.ac.jp
((at)は@へ置き換えて下さい)

私たちと一緒に研究をしませんか?
見学はいつでも歓迎しています。
事前に喜多まで連絡の上でお越しください。
NEWS
11/15(金)にRutgers UniversityのLeonard Feldman先生をお迎えし, ワークショップ "SiC MOS Interface Mini Workshop at University of Tokyo" (14時~,工学部4号館 205セミナー室)を開催します!半導体界面の材料科学に興味ある方はぜひご参加ください。 スケジュール等 詳しくはこちら
★工学部4号館へのアクセス: こちらをご覧下さい。

秋の学会シーズン。SSDM2019@Nagoyaで2件,応用物理学会@札幌で3件,ICSCRM2019@Kyotoで3件の発表を行いました。 研究発表リストはこちら 写真もあります
卒業式: Adhi Dwi Hatmanto君が博士号を取得し,卒業しました。Qiao Chuさんは修士課程を修了しました。 写真はこちら
2019年8月 IWGO-3 (The 3rd International Workshop on Gallium Oxide and Other Related Materials)@Columbus, OH, USAにて喜多准教授が口頭発表を行いました。 研究発表リストはこちら

Conference Information & Call for Papers
International Workshop on Dielectric Thin Films for Future Electron Devices –Science and Technology –(2019IWDTF)@Tokyo (Nov. 18-20, 2019)
8th International Symposium on Control of Semiconductor Interfaces (ISCSI-VIII) @Sendai, Japan (Nov 27-30)
電子デバイス界面テクノロジー研究会@三島 (Jan. 30-Feb.1, 2020)

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